簡(jiǎn)介： 潔凈技術(shù)又稱(chēng)為生產(chǎn)環(huán)境和污染控制技術(shù)，是近二、三十年來(lái)隨著(zhù)高新技術(shù)發(fā)展起來(lái)的一門(mén)綜合性的新興科學(xué)技術(shù)。潔凈技術(shù)專(zhuān)門(mén)研究并提供潔凈的生產(chǎn)工藝環(huán)境和生產(chǎn)過(guò)程中使用的各種高純介質(zhì)，有效地控制微量雜質(zhì)，以保證高科技產(chǎn)品的成品率和可靠性。潔凈技術(shù)通常包括：空氣凈化技術(shù)、空調技術(shù)、水純化技術(shù)、氣體純化技術(shù)、微量雜質(zhì)控制技術(shù)、潔凈環(huán)境的監測技術(shù)及相關(guān)的環(huán)境質(zhì)量的控制技術(shù)。凈化工程技術(shù)在電子、核子、航空航天、生物工程、制藥、精密機械、化工、食品、汽車(chē)制造等高科技工業(yè)領(lǐng)域及現代科學(xué)領(lǐng)域中得到廣泛應用。

　　關(guān)鍵字：潔凈技術(shù) 高效過(guò)濾器

　　潔凈技術(shù)又稱(chēng)為生產(chǎn)環(huán)境和污染控制技術(shù)，是近二、三十年來(lái)隨著(zhù)高新技術(shù)發(fā)展起來(lái)的一門(mén)綜合性的新興科學(xué)技術(shù)。潔凈技術(shù)專(zhuān)門(mén)研究并提供潔凈的生產(chǎn)工藝環(huán)境和生產(chǎn)過(guò)程中使用的各種高純介質(zhì)，有效地控制微量雜質(zhì)，以保證高科技產(chǎn)品的成品率和可靠性。潔凈技術(shù)通常包括：空氣凈化技術(shù)、空調技術(shù)、水純化技術(shù)、氣體純化技術(shù)、微量雜質(zhì)控制技術(shù)、潔凈環(huán)境的監測技術(shù)及相關(guān)的環(huán)境質(zhì)量的控制技術(shù)。凈化工程技術(shù)在電子、核子、航空航天、生物工程、制藥、精密機械、化工、食品、汽車(chē)制造等高科技工業(yè)領(lǐng)域及現代科學(xué)領(lǐng)域中得到廣泛應用。

　　對于半導體設備來(lái)講，凈化工程技術(shù)在微電子技術(shù)中起著(zhù)十分重要的作用。微電子技術(shù)的核心是集成電路，而集成電路的生產(chǎn)對其工藝環(huán)境和工藝流程中的凈化技術(shù)和設備提出了嚴格的要求。我國“九五”期間大力發(fā)展以微電子為重點(diǎn)的信息產(chǎn)業(yè)。凈化工程技術(shù)水平在某種意義上已成為衡量一個(gè)國家和地區科學(xué)技術(shù)水平和工業(yè)水平的一個(gè)重要標志。

　　隨著(zhù)我國人民生活水平提高，人們對生存環(huán)境及生活質(zhì)量提出了越來(lái)越高要求，用水純化設備制備的高純水已受到人們普遍歡迎，凈化工程技術(shù)已開(kāi)始進(jìn)入千家萬(wàn)戶(hù)，進(jìn)入人們的現代生活。

　　我國的潔凈技術(shù)和設備與國外先進(jìn)國家相比差距是明顯的，我國1965年才開(kāi)始生產(chǎn)的HEPA過(guò)濾器，比國外晚了十五年。1975年開(kāi)始生產(chǎn)的光散射塵埃粒子計數器比國外晚了二十年。0．1微米潔凈技術(shù)和設備在國際上先進(jìn)國家已成為成熟技術(shù)，我國則剛剛起步。

　　世界各工業(yè)先進(jìn)國家為適應超凈技術(shù)的發(fā)展，對大量使用的高效過(guò)濾器的研究從未中斷，幾年來(lái)一直在開(kāi)發(fā)不同結構不同性能的新產(chǎn)品，美國自1979年開(kāi)始研制0．1微米ULPA過(guò)濾器，1984年美國AAF公司開(kāi)始生產(chǎn)0．1微米無(wú)隔板ULPA過(guò)濾器，目前0．1微米ULPA過(guò)濾器在美國AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDGE公司已形成商品化生產(chǎn)。日本也已成為世界上生產(chǎn)0．1微米ULPA過(guò)濾器廠(chǎng)家最多的國家，品種繁多，產(chǎn)品系列化，尤其是低壓損型0．1微米ULPA過(guò)濾器的開(kāi)發(fā)成功解決了初阻力大的技術(shù)難題。國際市場(chǎng)對高效空氣過(guò)濾器的需求量很大，且每年均有增長(cháng)，目前日本每年銷(xiāo)售超過(guò)100萬(wàn)臺，按每臺平均價(jià)格200美元計算，銷(xiāo)售額達2億美元。我國高效空氣過(guò)濾器市場(chǎng)需求量已接近每年10萬(wàn)臺，占國際市場(chǎng)的2％~4％，但至今還沒(méi)有0．1微米ULPA過(guò)濾器生產(chǎn)，用于超大規模集成電路生產(chǎn)潔凈廠(chǎng)房及各種高科技領(lǐng)域潔凈廠(chǎng)房的0．1微米ULPA過(guò)濾器目前還要依賴(lài)進(jìn)口。

　　在潔凈室建設規模和技術(shù)水平上，我國與先進(jìn)國家差距更大。日本清水建設公司一家，1982年到1987年期間承建的潔凈室面積達71．8萬(wàn)平方米，而我國目前一年承建的潔凈室總面積還不到10萬(wàn)平方米，但八五期間有較大發(fā)展，1993年承建潔凈室總面積已接近15萬(wàn)平方米。美國的潔凈室建設規模更大，1998年統計已達188．5萬(wàn)平方米。在潔凈工程技術(shù)水平上，80年代末期，國外已大量建成0．1微米級的超凈室，1987年日本三洋新瀉工場(chǎng)建成十級潔凈廠(chǎng)房3000平方米，NIT原木則建成了四個(gè)1000平方米控制0．1微米塵埃的千級廠(chǎng)房，換氣次數高達300次／分。美國在臺灣的TSMCS新廠(chǎng)已建成第四代管道式潔凈室總面積達10000平方米。我國使用的0，1微米十級潔凈室主要依賴(lài)從國外進(jìn)口。由于高潔凈級別的潔凈室造價(jià)十分昂貴，0．1微米十級潔凈室每平方米造價(jià)高達1萬(wàn)美元以上。在大規模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠(chǎng)房占有相當高的比例，這與集成電路工藝不斷更新，產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來(lái)越快的發(fā)展趨勢不相適應，嚴重制約了大規模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國ASYST公司、

　　德國MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米生產(chǎn)微環(huán)境系統設備和技術(shù)在近幾年中得到廣泛采用。該項最新的潔凈技術(shù)在100級潔凈度的潔凈廠(chǎng)房中，采用工藝設備局部使用隔離技術(shù)的微環(huán)境，把投資比例壓縮到高級別的微環(huán)境，消除了操作者與工藝設備運行的二次污染源產(chǎn)生對集成電路成品率和可靠性的影響作用。

　　潔凈技術(shù)和裝備的國際市場(chǎng)十分巨大，日本到80年代末、90年代初潔凈技術(shù)和設備的銷(xiāo)售額已突破35億美元。美國和西歐等先進(jìn)國家潔凈設備和基礎部件的銷(xiāo)售額已達73億美元。據中國電子專(zhuān)用設備工業(yè)協(xié)會(huì )統計，我國主要八家最大的凈化設備廠(chǎng)的銷(xiāo)售額1990年為8217萬(wàn)元，還不足1億，1993年達到14495萬(wàn)元，占國際市場(chǎng)銷(xiāo)售額的0．34％。但隨著(zhù)我國高新技術(shù)的迅速發(fā)展和微電子工業(yè)、光纖工業(yè)、液晶顯示工業(yè)及光電器件工業(yè)、生物工程、醫藥工業(yè)的發(fā)展，我國潛在的巨大的潔凈技術(shù)產(chǎn)品市場(chǎng)，以每年40％~50％的增長(cháng)速度在增加。